Für ihr Projekt „EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter“ zeichnete Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier im November ein Experten-Team von ZEISS, Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT), TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing und dem Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena mit dem Preis für Technik und Innovation aus. EUV steht für „extrem ultraviolett“, also Licht mit extrem kurzer Wellenlänge. Mit dieser konkurrenzlosen Schlüsseltechnologie lassen sich in diesem und dem nächsten Jahrzehnt weitaus leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als jemals zuvor. „Das ist eine absolut zukunftsweisende Entwicklung, und der Preis ist ein deutliches Signal für die hervorragenden wissenschaftlichen und technologischen Leistungen, die hier in Thüringen erbracht werden,“ freut sich Wirtschaftsminister Wolfgang Tiefensee.
| Invest in Thüringen